高真空多靶磁控溅射镀膜机结果公告

高真空多靶磁控溅射镀膜机结果公告

发布日期：2026-10-26 浏览次数：

中标信息

中标供应商：山西华辉科仪科技有限公司

选择理由：总价最低，推荐成交

质疑投诉说明：如有质疑，请在三个工作日内将质疑说明文件递交至学校采购管理部门，逾期不予受理。

项目名称 高真空多靶磁控溅射镀膜机 项目编号 TYUSTJJCG2026-069项目编号 TYUSTJJCG2026-069

公告发布日期 2026/10/21 10：03 公告截止日期 2026/10/26 10：03公告截止日期 2026/10/26 10：03

采购单位 太原科技大学

联系人 中标后在我参与的项目中查看 联系手机 中标后在我参与的项目中查看联系手机 中标后在我参与的项目中查看

是否本地化服务 否 是否需要踏勘 否

是否需要踏勘 否

踏勘联系人 踏勘联系电话

踏勘联系电话

踏勘地点 踏勘联系时间

踏勘联系时间

采购预算 ￥250,000.00 成交金额 ￥245,000.00成交金额 ￥245,000.00

送货/施工/服务期限 自合同签订之日起10天内完成设备的运输、安装、调试。

送货/施工/服务地址 太原科技大学主校区

售后服务 （1）自货物技术验收合格之日起，软件系统、硬件提供1年的免费保修服务；

质保期内无条件免费维护以及升级；

（2）所有设备质保期内提供 8小时上门服务，确保1个小时内响应，要求3小时到达现场，4小时修复故障，若不能修复，需要在 48小时内提供备件到达用户使用现场。

（3）免费提供用户培训服务，培训时间及形式灵活，达到用户完全掌握。

付款条款 合同生效后发货前预付30%，货到验收合格后支付70%其他说明 无

采购清单

1

采购内容 数量单位 分项报价

高真空多靶磁控溅射镀膜机 1(套) ￥245,000.00是否进口 否

指定品牌及型号 /

技术参数要求 ★1.真空腔室：φ350×H400mm，SUS304 优质不锈钢真空腔室，前开门结构；

2.真空系统：复合分子泵+直联高速旋片式真空泵+高真空阀门+数显复合真空计；

★3.真空极限 6.0×10-5Pa（设备空载，抽真空 24 小时）;

▲4.升压率：设备升压率：≤0.8Pa/h（12 小时平均值）；

设备保压：停泵 12 小时后，设备真空度≤10Pa；

★5.抽速：从大气抽至 5.0×10-3Pa≤15min（设备空载）；

从大气抽至 5.0×10-3Pa≤10min（设备空载，干燥氮气环境）；

6.基片台：①基片台尺寸 Φ120mm，最大样品尺寸小于 Φ120mm；

配有基片台挡板；

②旋转转速 0～20 转/分钟，可调可控；

基片台与腔室绝缘设计，可加偏压电源；

▲③加热：室温～500±1℃（基片台环境温度）；

PID 智能温控闭环控温，可控可调。

★7.溅射靶及电源：①配置 3 套 2 英寸永磁共焦磁控溅射靶（靶角度、靶基距手动可 调），向上溅射；

②工作方式：各靶可独立/顺次/共同工作，采用磁控靶从下向上溅 射镀膜；

③电源：直流脉冲溅射电源 1kW，数字化控制及显示，2 台；

射频电源 500W， 数字化控制及显示，1 台；

脉冲偏压电源：-1kV， 数字化控制及显示，1 台。

▲8.工作气路系统：质量流量控制器及量程范围：Ar，100sccm；

O2，10sccm；

9.膜厚不均匀性：≤±5%（单靶镀膜，基片台 Φ75mm 范围内）；

10.控制方式：PLC+触摸屏控制；

▲11.软件：手/自动控制方式，能够通过显示屏实时显示系统真空，工艺参数及工艺 过程历史数据、报警的记录等；

可以实现工艺菜单灵活编辑（可以在工艺编辑软件 进行模块化的工艺菜单编辑）+工艺菜单自动控制执行模式（载入工艺菜单，支持实 现无人值守或远程网络控制镀膜）；

（要求响应时提供系统功能截图证明） 12.报警及保护：对缺水进行报警并执行相应保护措施；

完善的逻辑程序互锁保护 系统;

▲13.辅助设备：随机配备冷却循环水机，小型静音空气压缩机各 1 台；

▲14.靶材：随机配备 2 英寸钴、银、锰靶材各 1 块。

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该项目其它公告

高真空多靶磁控溅射镀膜机竞价公告 2026-10-21 10：03