发明公布
实质审查的生效
一种磁控溅射镀膜设备
点击复制后，可直接粘贴至 国家知识产权局专利公布公告 检索框，核验专利真伪与法律状态。
- 申请号
- CN202510523877.7
- 公开号
- CN120443122A
- 申请人
- 镇江市德利克真空设备科技有限公司
- 发明人
- 匡国庆
- 申请日
- 2025-04-24
- 公开日
- 2025-08-08
- 代理机构
- 32358 南京创略知识产权代理事务所(普通合伙)
- 代理人
- 陆耀琪
- 申请人地址
- 212000 江苏省镇江市扬中市新材料工业园兴旺大道
- 分类号（IPC）
- C23C14/35(2006.01)
摘要
本发明公开一种磁控溅射镀膜设备，包括控制区和镀膜区，控制区和镀膜区上下分布，中间通过镀膜室顶板分隔；镀膜区内至少设有一组旋转阴极，且旋转阴极安装于密封的镀膜室内；旋转阴极两侧均设有供气组件，且供气组件沿旋转阴极的长度方向延伸，通过气体的流量与压力控制溅射速率以及镀膜的均匀性；两侧的供气组件分别配置冷却组件，通过冷却组件中循环流动的冷却介质对供气组件进行冷却。本发明的磁控溅射镀膜设备中的供气板配置冷却板，通过蛇形冷却流道中循环流动的冷却介质对供气板进行降温冷却，从而避免供气板受热变形，保证每个供气口位置的准确性，从而保证镀膜工件各部位供气的均匀性，进一步提高溅射镀膜的质量。
摘要为国家知识产权局公开著录项原文，未作改写。
权利要求
1.一种磁控溅射镀膜设备，其特征在于，包括控制区和镀膜区，所述控制区和所述镀膜区上下分布，中间通过镀膜室顶板（1）分隔；所述镀膜区内至少设有一组旋转阴极（2），且所述旋转阴极（2）安装于密封的镀膜室内；所述旋转阴极（2）两侧均设有供气组件，且所述供气组件沿所述旋转阴极（2）的长度方向延伸，通过气体的流量与压力控制溅射速率以及镀膜的均匀性；两侧的所述供气组件分别配置冷却组件，通过所述冷却组件中循环流动的冷却介质对所述供气组件进行冷却。
以上为公开文本原文，未作改写；权利要求范围以国家知识产权局公告文本为准。
关联厂家档案
镇江市德利克真空设备科技有限公司