一种磁控溅射镀膜设备中的供气系统

摘要

本实用新型公开一种磁控溅射镀膜设备中的供气系统，为磁控溅射镀膜设备的真空镀膜室提供镀膜所需的气体，其包括位于真空镀膜室内部的供气组件和位于真空镀膜室外部的气控装置，供气组件与气控装置之间通过导气管相连；供气组件包括供气板和冷却板，供气板和冷却板之间通过碳膜分隔；供气板与冷却板的接触面上设有分级供气流道；冷却板内开设有蛇形冷却流道，并且在冷却板一侧连接冷却管，由冷却管引入冷却介质在蛇形冷却流道中循环流动，对供气板进行降温冷却。从而避免供气板受热变形，保证每个供气口位置的准确性，从而保证镀膜工件各部位供气的均匀性，进一步提高溅射镀膜的质量。

摘要为国家知识产权局公开著录项原文，未作改写。