一种磁场均匀性好的磁控溅射靶芯

摘要

本实用新型公开一种磁场均匀性好的磁控溅射靶芯，包括靶芯座和磁铁座，所述靶芯座与所述磁铁座之间通过多个紧固件相连；所述磁铁座上固定安装四条磁铁组，其中两侧为两条边缘磁铁组，两条所述边缘磁铁组之间为两条中间磁铁组；两条所述边缘磁铁组安装于所述磁铁座的平面上，而两条所述中间磁铁组安装于所述磁铁座中部凸起的台阶上；四条磁铁组均由多个矩形磁块沿长度方向依次排列而成。本实用新型中磁控溅射靶芯的四条磁铁组采用海尔贝克阵列这一特殊的排列方式，使得该靶芯的磁场具备单边强磁场、磁场均匀性好、磁场利用率高和自屏蔽特性等优势，从而优化真空镀膜室内的磁场分布，进一步提升镀膜效果。

摘要为国家知识产权局公开著录项原文，未作改写。